吸收过程与设备

AAI脑图#2199162025-11-05 03:33
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内容详情

核心概念

吸收定义

  • 溶质A从气相→液相,形成吸收液(A+S)与尾气(B+少量A)

设备类型

  • 填料塔
    • 连续接触式:液顶进底出,气底进顶出
  • 板式塔
    • 逐级接触式:通过塔板传质

吸收剂选择

  • 原则:溶解度大、选择性高、再生易、挥发性小、粘度低、化学稳定、无毒价廉

吸收分类

  • 物理/化学吸收(是否反应)
  • 单组分/多组分(溶质数量)
  • 等温/非等温(热效应)
  • 高浓度/低浓度(>10%/≤10%摩尔分数)

相组成表示

浓度类

  • 质量浓度ρ_A=m_A/V;总ρ=Σρ_i
  • 摩尔浓度c_A=n_A/V;总c=Σc_i
  • 换算:ρ_A=M_A·c_A

分数类

  • 质量分数w_A=m_A/m
  • 摩尔分数:气相y_A,液相x_A
  • 换算:x_A=(w_A/M_A)/Σ(w_i/M_i)

比值类

  • 质量比a̅_A=m_A/m_B
  • 摩尔比:气相Y_A,液相X_A
  • 换算:X_A=x_A/(1-x_A);Y_A=y_A/(1-y_A)

气液相平衡

相律

  • F=C-φ+2;C=3,φ=2→F=3

溶解度规律

  • T↓→x↑;p↑→x↑
  • 同p_A下:c_O₂<c_CO₂<c_SO₂<c_NH₃

亨利定律

  • p_A*=E·x(E↑溶解度↓)
  • p_A*=c_A/H(H↑溶解度↑)
  • y*=m·x(m=E/p;m↓溶解度↑)
  • Y*≈m·X(稀溶液)

相平衡应用

传质方向

  • 吸收:y>y*;解吸:y<y*

过程极限

  • y₂,min=mX₂;x₁,max=y₁/m

推动力

  • 气相:Δy=y-y*;液相:Δx=x*-x

单相内传质

分子扩散

  • 菲克定律:J_A=-D_AB·dc_A/dz
  • 等摩尔反向扩散:N_A=(D/z)(c_A1-c_A2)
  • 单向扩散:N_A=(Dc/zc_Bm)(c_A1-c_A2)

扩散系数D

  • 气体10⁻⁵~10⁻⁴ m²/s;液体10⁻¹⁰~10⁻⁹ m²/s
  • T↑→D↑;p↑→D↓

对流传质

  • 有效膜模型:阻力集中虚拟膜
  • 气相:N_A=k_G(p_A-p_Ai)
  • 液相:N_A=k_L(c_Ai-c_A)

两相对流传质

双膜模型

  • 总阻力=气膜+液膜;界面平衡

总传质方程

  • N_A=K_G(p_A-p_A*);1/K_G=1/k_G+1/(Hk_L)
  • N_A=K_y(y-y*);1/K_y=1/k_y+m/k_x

控制步骤

  • 气膜控制:易溶,H大,1/K_G≈1/k_G
  • 液膜控制:难溶,H小,1/K_L≈1/k_L

吸收塔计算

物料衡算

  • V(Y₁-Y₂)=L(X₁-X₂)
  • 回收率η=(Y₁-Y₂)/Y₁

操作线

  • 逆流:Y=(L/V)X+(Y₂-L/V·X₂)
  • 并流:Y=-(L/V)X+(Y₁+L/V·X₂)

最小液气比

  • (L/V)min=(Y₁-Y₂)/(X₁*-X₂)
  • 实际L=(1.1~2.0)Lmin

填料高度

  • Z=H_OG·N_OG
  • N_OG=(Y₁-Y₂)/ΔY_m(对数平均)
  • N_OG=1/(1-S)ln[(1-S)(Y₁-mX₂)/(Y₂-mX₂)+S](吸收因数法)

解吸

条件

  • Y<Y

方法

  • 气提、减压、加热

计算

  • 物料衡算:V(Y₁-Y₂)=L(X₁-X₂)
  • (V/L)min=(X₁-X₂)/(Y₁*-Y₂)
  • Z=H_OL·N_OL

填料塔结构

核心部件

  • 液体分布器、填料层、支承板、再分布器、压板

流体力学

  • 持液量:静+动
  • 空塔气速u=V气/Ω
  • 液泛:u泛点最大,实际u=0.6~0.8u泛点